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光刻技術(shù)，有了新選擇

光刻工藝是半導(dǎo)體器件制造工藝中的一個(gè)重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫(huà)幾何圖形結(jié)構(gòu)，然后通過(guò)刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉(zhuǎn)移到所在襯底上。自1961年第一臺(tái)光刻機(jī)誕生以來(lái)，光刻機(jī)經(jīng)歷了接觸式→接近式→投影式的發(fā)展路線，如今以投影式中的步進(jìn)掃描式光刻機(jī)為主流。在不同的階段，每一代光刻機(jī)都遇到了前所未有的挑戰(zhàn)與難題，與此同時(shí)，光刻技術(shù)也在這個(gè)過(guò)程中不斷演進(jìn)。01光刻技術(shù)的發(fā)展路徑接觸式光刻技術(shù)

2024-08-08